求人番号:166890

NEW【神奈川/転勤無】カソード(電極)研究開発※半導体製造装置

  • 570万円~960万円
  • 神奈川県横浜市磯子区 新杉田町8番1
職種未経験OK
正社員
リモートワーク(在宅勤務)
フレックス勤務実績あり
第二新卒歓迎
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募集要項

仕事内容 電子ビームマスク描画装置用カソードの機能・製造・運用方法の研究開発ポジションです。

【具体的には】
電子ビームマスク描画装置におけるカソードの機能・製造・運用方法に関する研究開発をお任せいたします。
カソードの長寿命化、高輝度化、安定性向上といったテーマに取り組んでいただき、試行錯誤を重ねながら課題解決を進めていただきます。
特に長寿命化が最重要テーマとなっており、仮説立案からシミュレーション、検証を通じたPDCAサイクルを回していただきます。
具体的には、下記の業務を担当していただきます。

・長寿命化:寿命のモデル化(寿命に関する要因分析と仮説立案)、長寿命化のための設計・試作・評価
・高輝度化:大電流密度の研究開発(電極構造・可熱機構の設計・試作・評価、新しい電極材料の探索)
・高い安定性の確保:変動原因の究明、解決策の設計・試作・評価
※主に電子光学設計や機械設計部門と協業しながら業務を進めます。

【カソードとは】
現代の最先端半導体は、ナノメートル(1ミリの100万分の1)レベルの超微細な回路を描く必要があります。
光(レーザー)では波長が大きすぎて描けない細かさになっており、波長が極めて短い「電子の波(電子ビーム)」を使って回路の原版(マスク)を直接削る・描く装置が使われます。(=電子ビームマスク描画装置)
その「超極細で超高精度な電子ビーム」を発生させるための絶対的な心臓部が「カソード」です。
カソードの性能=装置全体の性能と言えるほど、重要なコアパーツです。

【採用背景】
新シリーズの電子ビームマスク描画装置におけるカソードおよびカソードの品質改良における開発を進めるため、組織強化のための採用となります。

【職務内容変更の範囲】
会社の定める業務
実際に何を担当する?聞いてみる(無料)
仕事内容(備考) 【入社後の流れ】
入社後まずは真空やカソードの基本的な動作原理や知識を座学で学び、カソードの取り扱いについて法規制を含めて一通り実践していただきます。
その後は開発テーマに沿って、他社員とともに業務を進めていただきます。
最初は単独で完結できる比較的小さめのタスクを担当していただき、徐々に2~3名で取り組むタスクへと広げていく予定です。
将来的には、機械設計や電子光学設計を担当するグループと協業しながら、カソードの開発をリードしていただくことを期待しております。
※カソード開発で必要とされる専門知識・スキルについては、入社後の研修・教育でサポートしますのでご安心ください。

【組織構成】
描画装置技術部 ビーム制御技術グループ:10名
年齢層:20代~40代(平均年齢:35歳)
役割、チーム:装置のシリーズ毎にチームが分かれており、チーム間は密接にかかわりあいながらカソード全体の開発に取り組んでいます。

【ミッション】
より安定的に長持ちするカソードを研究・開発し、装置の品質向上に貢献すること

【充実の研修・育成制度】
OJTによる丁寧な実務フォローをはじめ、学びの場を多数ご用意しています。
各種研修や部門の中で勉強会も開催。
半導体製造装置や環境、品質などテーマは多岐にわたります。

【職場の魅力】
・カソードの高輝度化、安定化、長寿命化という世の中で未だ確立されていない最先端の技術を支えている仕事であり、世の中への貢献度でやりがいを感じることができます
・カソード開発は特別な知識が必要というより、異なる技術や知識を組み合わせながら一つのものに仕上げていく難しさとやりがいがあります
・昨日までわからなかった部分が徐々に解明されていったりと、日々探求心をくすぐられる分野に携わることができます
・特にマルチビームシリーズでは、従来のシングルビーム(VSB)と比較してカソードに求められる性能が大きく変化しており、さらなる長寿命化に向けた開発に携わることができます
・電子銃だけではなく、それを駆動するための高圧電源や放出された電子を制御する電子光学系も考慮し、実用のシーンも考慮した広い視野が必要とされる開発が魅力的です
・技術に対して自由な雰囲気があります。比較的自由な発想で実験や評価を行うことができ、開発を主導的に進める事ができる環境です
参考資料 会社の特徴や仕事の詳細、社員インタビューなどを以下のサイトでご覧になれます。
https://www.nuflare.co.jp/recruit/
必要な経験・能力 【必須】半導体業界の経験不問
・電磁気学、電子光学、荷電粒子源のいずれかについて基礎知識をお持ちの方
※物理系、理工系の学部を卒業された方を想定

【尚可】
・真空装置を使用した経験をお持ちの方
・電子顕微鏡(SEM等)を製造するメーカーでの実務経験をお持ちの方
・材料開発や仕様設計の経験をお持ちの方
・統計処理や実験計画法(DOE)を使った開発の実務経験をお持ちの方
・コーディングスキルをお持ちの方(言語不問)
・電子銃の知識をお持ちの方
内定の確率は?聞いてみる(無料)
求める学歴 高専卒・大学卒・大学院卒(修士)・大学院卒(博士)
勤務地 本社 〒235-8522 神奈川県横浜市磯子区新杉田町8番1 JR京浜東北 根岸線「新杉田駅」東口より徒歩10分 【変更の範囲】 海外現地法人を含む、当社各拠点
転勤 当面なし
転勤の有無・頻度を聞いてみる(無料)
年収・給与 年収:570万円~960万円
月給 ●年収イメージ 【担当クラス】年収:570万円~ 810万円、月給:26万9千円~38万円 【主任クラス】年収:720万円~ 960万円、月給:34万円~45万円 ●直近事例 ・【担当クラス】680万円/29歳(独身/月給30万9000円+時間外手当+各種手当+賞与) ・【担当クラス】820万円/31歳(既婚・子1人/月給36万1500円+時間外手当+各種手当+賞与) ・【主任クラス】910万円/38歳(既婚・子2人/月給39万1500円+時間外手当+各種手当+賞与) ※時間外手当…24時間/月として算出(2024年度全社平均)
給与事例 ・昇給:有(年1回:4月)
・賞与:有(年2回)
・福利厚生支援制度:教育・健康・懇親 etc.に対し年間最大35万円の補助あり
・独身者用、世帯主用借り上げ社宅制度あり
※経験、能力等を考慮し、当社規定により支給いたします
あなたの年収は?聞いてみる(無料)
その他福利厚生 ・独身借上社宅制度(35歳まで)、世帯向け借上社宅制度(最大12年間)
・選択型福祉制度「カフェポイント」(年間5万円分のポイント付与)
・リフレッシュ休暇:勤続10年、20年、30年に取得
・育児・介護休業制度、配偶者出産休暇制度
・福利厚生支援制度:教育・健康・懇親等に対し年間最大35万円の補助有
・目的型福祉制度:健康づくり、自己啓発、職場コミュニケーションなど年間最大30万円補助
就業時間 8:45~17:30(休憩時間:60分、実働時間:7時間45分)
※フレックスタイム制(コアタイム無し)
残業時間 月平均25H程度
休日 完全週休2日制(休日は土日祝日)
年間有給休暇1日~24日(下限日数は、入社直後の付与日数となります)
年間休日日数125日
働き方を聞いてみる(無料)
雇用形態 正社員(期間の定めなし)
試用期間 6ヶ月(条件・待遇に変動なし)
選考プロセス 書類選考→一次面接(WEB)+SPI→最終面接(対面)→内定
※面接方法、回数は変更になる場合もございます。
定年 60歳(再雇用:65歳まで)
備考欄 職務内容変更の範囲:会社の定める業務
勤務地変更の範囲 :海外現地法人を含む、当社各拠点
タイズ補足情報
☆半導体製造装置を通じて、半導体産業と人類、社会に貢献し、発展し続ける企業でありたい。☆

今日半導体は、通信・家電・自動車など身の回りのあらゆる物に搭載され、さらにネットワー
クで繋がることにより、大きな価値を生み出し、豊かな社会生活を支えています。
このような半導体の急激な発達に伴い、半導体製造装置に対する要求も急速に高度化・多様化が進んでいます。
ニューフレアテクノロジーは、2002年に東芝機械株式会社から半導体装置事業を継承して創業し、以来、半導体製品の製造に用いられる最先端の『電子ビームマスク描画装置』『マスク検査装置』『エピタキシャル成長装置』を開発・提供し、半導体産業の発展に貢献しています。

【製品情報】
■電子ビームマスク描画装置
電子ビームによる描画制御技術コア技術として、精密機械制御、大規模データ処理、レーザ計測技術等の多様且つ高度に専門化された要素技術を統合し、LSI(大規模集積回路)の製造工程における回路原版(フォトマスク)を描画・製造するための装置です。

テレビのブラウン管と同様の原理で電子源から発生させた電子線を用いてフォトマスク上に回路パターンを形成します。電子ビームマスク描画装置は複雑な回路パターンを形成するために、電子線のスポットの位置を正確に位置決めします。この時、フォトマスク上ではナノメートルオーダーの位置精度が要求されます。
その位置決めの精度と位置決めの速度を例えると、サッカー場に直径20mmの一円玉を0.2mm以内の誤差で、2秒以内に一つの抜けもないように敷き詰めるような正確さと速さに相当します。
高速・高精度の電気回路技術と電気制御技術により、初めて高スループットで高品質の半導体回路パターンの形成が可能となります。

■マスク検査装置
ガス制御技術をコア技術として、シリコンウェーハや SiCウェーハ上にシリコンやGaN、 SiCなどの単結晶を成長させるための装置です。

■エピタキシャル成長装置
電子ビームマスク描画装置で描画・製造された回路原版(フォトマスク)を高速に検査し、微細化が進むLSIの歩留まり向上に貢献しております。

※お申し込み後、弊社にて転職支援(無料)させていただく際に限りお伝え可能です。

応募希望求人 : 株式会社ニューフレアテクノロジー (【神奈川/転勤無】カソード(電極)研究開発※半導体製造装置) (166890)

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企業情報

社名 株式会社ニューフレアテクノロジー
本社所在地 〒235-8522 神奈川県横浜市磯子区新杉田町8番1
事業内容 電子ビームマスク描画装置、エピタキシャル成長装置、マスク検査装置の3製品を中心とした半導体製造装置の開発、製造、販売を主たる事業として行っております。将来性は?聞いてみる(無料)
設立日 2002年8月1日
株式公開 非上場
資本金 64億8,600万円
決算情報 非公表
従業員数 907名(2024年3月31日現在)

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