そんなイメージを払拭する企業様が”ニューフレアテクノロジー（NFT）”です！

【必見ポイント】
1.働き方の改善
全社平均残業25hとリモートワークも導入
また転勤無であるため、腰を据えて働くことが可能です。

Q：なぜ残業時間が少ないの？
A：市場を独占しており、NFT社に発注するほかないためです。
その中でNFTは納期に縛られず、品質と顧客からの要望実現を非常に重要視するため
残業時間が少ない状態となっております。
⇒このような働き方が出来るため、離職率は2.25%（全国平均15.4%）！

2.充実した福利厚生制度
・借り上げ社宅※条件有。
世帯：47歳まで
独身：35歳まで入居可能
本人負担額は10～34%！

Q：持ち家なんだけど…、社宅適用が終わったらどうなるの…
A：ご安心ください。住宅費補助もございます。
最大2.7万円/月の補助をご準備しております。
※役職等の諸条件はございます。

・次世代育成手当
18歳未満の子1人につき　1.5万円/月支給
※一般職以外は対象外

その他35万円分の補助あり

3.待遇改善
これだけ働きやすく、キャリアアップまで図ることが出来る環境であるにも関わらず好待遇。
実際、全製造業の平均年収の1.3倍にもなる平均年収832万円です。

4.キャリアアップ
社員数は多くないにも関わらず、現在話題の半導体業界において世界シェア1位となっております。
そのため、他社様とは違い各自が幅広く、高度な技術を身に着けることが可能です。
※院卒・博士卒も多く在籍しており、独自の勉強会も開催。
また、裁量も非常に大きく、若いうちに自らの開発計画等を立てる機会もあり、
20代後半でリーダーが既に何名も誕生しております。

5.海外にも挑戦したい
同業界では珍しく、月に社員の約15％が海外へ出張しており、海外志向のある方にはおすすめです。
※駐在の求人も複数ございます。

★なお、よく候補者の方から「半導体業界ってこんなにも良いのに、全く業界が違うからな…」
などと仰られるときがありますが、全く問題ございません！
弊社ではしっかりと研修体制を整えている分、自動車業界の方など他業界からも多くの方が入社されております。
※1,800を超える研修ツールでフォロー！

製品自体の魅力としては電子ビームマスク描画装置で世界シェア90%を獲得
2025年には100%のシェア獲得を目指しており、市場を独占している安定性。
また、化学の知見を用いた成膜装置も開発しており、既に40％ほどのシェアを持っている。
こちらも他社の参入が少ないことから、注力事業として、今後の更なる安定基盤の実現に。
※ちなみに、どうでもいいことかもしれませんが
サッカー場に直径20mmの一円玉を0.2mm以内の誤差で、2秒以内に一つの抜けもないように敷き詰めるような精度を持っているようです。
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☆半導体製造装置を通じて、半導体産業と人類、社会に貢献し、発展し続ける企業でありたい。☆

今日半導体は、通信・家電・自動車など身の回りのあらゆる物に搭載され、さらにネットワークで繋がることにより、大きな価値を生み出し、豊かな社会生活を支えています。
このような半導体の急激な発達に伴い、半導体製造装置に対する要求も急速に高度化・多様化が進んでいます。
ニューフレアテクノロジーは、2002年に東芝機械株式会社から半導体装置事業を継承して創業し、以来、半導体製品の製造に用いられる最先端の『電子ビームマスク描画装置』『マスク検査装置』『エピタキシャル成長装置』を開発・提供し、半導体産業の発展に貢献しています。

【会社情報】
■「半導体製造装置」の研究開発から　製造、販売、保守まで手掛ける新進メーカーです。
海外売上比率80％以上と世界のグローバル最大手企業を　顧客に事業展開を図っており、世界トップクラスの技術開発とモノづくりで、成長性や競争力に富む会社として市場から注目されている会社です。

■最先端技術の研究開発に力をいれており、技術に対して自由な雰囲気があります。
また、他社の追随を許さない高い技術力を維持するため、研究開発に大きな投資を続けており、研究開発費率22．6％と全製造業平均（4.81％）を大きく上回る比率であり、必要な開発提案であれば開発費注入はいとわず、常に最先端技術開発に携り主導的な開発を進める事ができる環境です。

【製品情報】
■電子ビームマスク描画装置
電子ビームによる描画制御技術コア技術として、精密機械制御、大規模データ処理、レーザ計測技術等の多様且つ高度に専門化された要素技術を統合し、LSI（大規模集積回路）の製造工程における回路原版（フォトマスク）を描画・製造するための装置です。
テレビのブラウン管と同様の原理で電子源から発生させた電子線を用いてフォトマスク上に回路パターンを形成します。電子ビームマスク描画装置は複雑な回路パターンを形成するために、電子線のスポットの位置を正確に位置決めします。この時、フォトマスク上ではナノメートルオーダーの位置精度が要求されます。
その位置決めの精度と位置決めの速度を例えると、サッカー場に直径20mmの一円玉を0.2mm以内の誤差で、2秒以内に一つの抜けもないように敷き詰めるような正確さと速さに相当します。
高速・高精度の電気回路技術と電気制御技術により、初めて高スループットで高品質の半導体回路パターンの形成が可能となります。

■マスク検査装置
ガス制御技術をコア技術として、シリコンウェーハや SiCウェーハ上にシリコンやGaN、 SiCなどの単結晶を成長させるための装置です。

■エピタキシャル成長装置
電子ビームマスク描画装置で描画・製造された回路原版（フォトマスク）を高速に検査し、微細化が進むLSIの歩留まり向上に貢献しております。
電気自動車で使用される充電器や、通信技術の5G、6Gなどの基地局はエピタキシャル成長装置で製造されるパワー半導体がなければ急速充電あるいは高速通信ができず、また省エネ、脱炭素推進が可能なものとして注目をされております。
当社のエピタキシャル成長装置は最先端かつ技術の高さで競合他社と差別化ができており、非常に製造困難な8インチSiCを製造可能な装置であるため、世界的に有名な海外半導体メーカーより受注を獲得できております。